溅射法

由辉光放电产生的氩离子撞击膜材料的目标，把表面的原子和分子敲打出来，让其在基板上堆积逐渐形成薄膜。该方法适用于合金薄膜的生成，也可用于高熔点材料生成薄膜。

等离子CVD法

在辉光放电产生的等离子中，利用材料分子的分解和结合在基板上形成薄膜的方法。　
因为化学反应能在困难的低温下进行反应，所以用气体材料的话，有机膜，无机膜都可以形成。

从薄膜到薄膜贴片电阻

用以上的方法在陶瓷等基板上形成薄膜。薄膜技术不仅用于电阻膜的形成，也能用于保护膜和电极内部膜的形成。